TK-100露點儀在半導體芯片生產車間的運用

露點儀在半導體芯片的生產工藝中起重要監(jiān)測作用。半導體芯片的生產是在

凈化間內進行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度（RH）這一項，一年內控制點的范圍從35%到65%，精度2%（70℃以下）濕度超標會影響產品質量及生產計劃的完成。

        在半導體芯片生產區(qū)，濕度不穩(wěn)定，會出現很多問題。最典型的問題是烘干期延長，整個處理過程變得難以控制。當相對濕度高于35%時，元件易被腐蝕。此外，將顯影液噴在芯片表面時，顯影液迅速揮發(fā)，使芯片表面溫度下降，致使水汽凝結在芯片表面。凝結水不但會影響顯影特性，還會吸收到半導體內，這將導致膨化及其它質量缺陷，還必須增加一些不必要的工藝控制。

        凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調節(jié)空氣，另一種是除濕劑。采用第一種方法時，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點以下。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后，重新送回凈化間。標準冷凍機可保證露點達到+4℃；采用第二種方法時，氣流通過吸濕劑，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點低于-18℃。

特征

• 國內開發(fā)、國內制造、國內校準

• 露點測量范圍-100至+20℃dp

• 精度±2℃dp

• 高響應速度

• 有競爭力的定價體系

• 交貨快捷

• 完善的支持體系

• 可追溯至國家標準

主要用途

• 手套箱內的露點控制

• 干燥機露點檢查

• 熱處理爐內氣氛控制

• 潔凈室和干燥室的露點管理

• 氣體純度控制

• 天然氣水分管理

• 半導體制造設備

• 有機EL制造

高品質國產露點儀

實現易于安裝的價格范圍